我国国产光刻机迎来里程碑式进步套刻≤

我国国产光刻机迎来里程碑式进步，套刻≤

IT之家9月15日消息，工业和信息化部于9月9日印发《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》通知，在文件列表包含国产氟化氪光刻机（110nm），和氟化氩光刻机（65nm）的内容。中国首台（套）重大技术装备是指国内实现重大技术突破、拥有知识产权、尚未取得明显市场业绩的装备产品，包括整机设备、核心系统和关键零部件等。IT之家附上这两行信息截图如下：晶圆直径照明波长分辨率套刻氟化氪（KrF）光刻机300mm248nm≤110nm≤25nm氟化氩（ArF）光刻机193nm≤65nm≤8nm氟化氪（KrF）...